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Tag / Van Eyck

다양한 리소그래프 인쇄를 만나는 곳 Magical Riso 비엔날레

리소그래프 인쇄(Risograph printing)에 대해 들어보신 적이 있나요? 간단히 리소 인쇄, 리소 프린팅 등으로도 불리고 있는데요. 리소그래프 인쇄는 디지털 스텐실 인쇄(digital stencil printing) 기법으로, 예술가와 그래픽 디자이너, 그리고 사진 작가들에게도 널리 사랑받고 있는 인쇄 기법입니다. 질적으로도 훌륭하며, 인쇄물의 독특한 분위기, 놀라운 색의 효과, 기계가 만들어내는 예상치 못한 결과까지 다양한 매력을 가지고 있습니다. 게다가 인쇄기가 크지 않아...CONTINUE READING
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[OPEN CALL] Van Eyck 레지던시 오픈콜 (~10/1)

2018년 9월, 지금 반 에이크(Van Eyck)에서는 레지던시 입주 작가들을 모집하고 있습니다. 얀 반 에이크 아카데미(Jan van Eyck Academie)의 레지던시는 예술가, 디자이너, 큐레이터, 사진가, (조경) 건축가, 작가, 비평가 모두를 환영합니다. 반 에이크는 네덜란드 마스트리히트에 위치한 국제적이고 다학제적인 인스티튜트로, 참여하는 개개인이 다양한 형태의 작업 환경 속에서 프로젝트를 발전시킬 수 있도록 시간과 공간을 제공하여, 개인의 역량을 증진시킬 수...CONTINUE READING
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[NEDxPO2018] MMCA 연구 프로젝트 2 – 수직에서 수평으로: 예술 생산의 변화된 조건들

MMCA 연구 프로젝트 2 – 수직에서 수평으로: 예술 생산의 변화된 조건들 MMCA Research Project2 – From Vertical to Horizontal: The Changed Conditions of Art Production Time: 30th May 10:30 – 17:30 신청기간: 16th May 10:00~마감시 Location: 국립현대미술관 서울관 B1 멀티프로젝트홀 네덜란드 올림픽 문화 프로그램 NEDxPO2018의 메인 [프로젝트2]로 국립현대미술관의 국제 심포지엄 <수직에서 수평으로: 예술 생산의 변화된 조건들>이 개최됩니다. 본 심포지엄은...CONTINUE READING
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순수미술, 디자인을 위한 다형기관 – Van Eyck

2018년 5월 30일, 국립현대미술관에서 NEDxPO2018의 두 번째 메인 프로젝트인 MMCA 연구 프로젝트 2 – 〈수직에서 수평으로: 예술 생산의 변화된 조건들〉이 개최됩니다. 지난 포스팅을 통해서 자세한 내용을 소개해드렸는데요. 그 시작에 앞서, 미리보기로 심포지엄 참여 주요 기관 중 반 에이크(Van Eyck)를 소개합니다.   반 에이크, 얀 반 에이크 아카데미로부터의 변화 반 에이크는 얀 반 에이크 아카데미(Jan van...CONTINUE READING
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[NEDxPO] MMCA 연구 프로젝트 2 〈수직에서 수평으로: 예술 생산의 변화된 조건들〉

  (For English, please scroll down.) 얼마 전, 〈스틸/라이프 – 네덜란드 현대 사진전〉으로 본격적으로 그 시작을 알린 NEDxPO2018의 두 번째 프로젝트가 곧 찾아옵니다. 지난 포스팅에 이어 이번 포스팅에서 더 자세한 내용을 전합니다.   [MMCA 연구 프로젝트 2] 〈수직에서 수평으로: 예술 생산의 변화된 조건들〉 – 일시: 2018년 5월 30일 (수) 10:30-17:30 – 장소: 국립현대미술관 서울관, 멀티프로젝트홀(B1F)...CONTINUE READING
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